光刻技术是通过光化学反应和物理化学蚀刻将电路图形转移到介电层上，形成功能图形的一种方法。广泛应用于PCB领域。
光刻胶在光的照射下可以在空间和时间上发生光化学反应。在光刻过程中，感光干膜是最关键的材料部分，主要组成为单体、交联剂和光引发体系。光引发剂体系在光照条件下，吸收能量产生活性物质引发反应。被用作感光干膜的光引发剂有BCIM、784、TPS、NPG、LCV。
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