光刻胶按光刻工艺，可分为正胶和负胶；按曝光波长可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束光刻胶、X射线光刻胶、离子束光刻胶等。

紫外光刻胶是指感光波长为300~450nm的近紫外光刻胶。而感光波长为100~300nm的光刻胶称为深紫外光刻胶。紫外光刻胶又分紫外负型光刻胶和紫外正型光刻胶。

紫外负型光刻胶指经紫外光(300~450nm)照射后，曝光区分子间发生光交联形成网状结构或光聚合使分子量变大，显影时，在显影液中溶解性变差，而未曝光区则容易在显影液中溶解，经显影后所得光刻胶图像与掩膜版图像相反。

紫外正型光刻胶是指经紫外光通过掩膜照射后，曝光区胶膜发生光分解或降解反应，溶解性能发生变化，溶于显影液，未曝光区胶膜则保留而形成正型图像的光刻胶。

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