光刻开始于一种称作光刻胶的感光性液体的应用。根据紫外光的特性可以分为两类：负性光刻胶和正性光刻胶。

负性光刻胶曝光区域发生交联，难溶于显影液，负性光刻胶具有良好的粘附能力、良好的阻挡作用、感光速度快；显影时发生变形和膨胀。所以只能用于2μm在的分辨率。正性复刻胶的曝光区域更加容易溶解于显影液，具有分辨率高、台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、成本高。

根据光刻胶能形成图形的最小光刻尺寸来分：传统光刻胶和化学放大光刻胶。传统光刻胶使用于I线（365nm）、H线（405nm）和G线（436nm）,关键尺寸在下从μm及其以上。化学放大光刻胶适用于深紫外线（DUV）波长的光刻胶。

——由广传电子材料编辑，未经允许，不得转载

广州市广传电子材料有限公司 办公电话020-34886591 客服电话18818841647